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応用物理学選書3
薄 膜
Thin Films

金沢工業大学教授 工博 金原 黎・
         工博 藤原英夫 共著
A5判/402頁/定価6912円(本体6400円+税8%)/1979年6月
ISBN978-4-7853-2503-9 (旧ISBN4-7853-2503-8)

 初学者のための“薄膜の物理”の入門書.
 薄膜についての最も基本的な現象,物理的性質について,どうしても知っておいて欲しい理論や実験結果を詳しく解説し,重要な応用にまで触れた.

 ※応用物理学選書」の一覧はこちら

【目 次】

『薄膜』 カバー
1 薄膜の製作法と膜厚測定法
 1.1 真空蒸着法
 1.2 スパッタリング法
 1.3 気相成長法
 1.4 膜厚の測定法
 文献

2 薄膜の形成と構造
 2.1 薄膜の形成過程と構造の観察
 2.2 核生成の現象論的モデル(VWBDの理論)
 2.3 核生成の原子論的モデル1(Waltonの理論)
 2.4 薄膜形成の確率過程的モデル(Zinsmeisterの理論)
 2.5 核生成の原子論的モデル2(Lewis-Campbellの理論)
 2.6 エピタクシー
 2.7 核成長のモデル
 2.8 薄膜中の構造欠陥
 文献

3 力学的性質
 3.1 弾性的性質
 3.2 付着
 3.3 内部適応(internal stress)
 3.4 引張り特性(tensile properties)
 文献

4 薄膜の電気的性質
 4.1 不連続薄膜
 4.2 連続薄膜
 文献

5 光学的性質
 5.1 基礎となる公式
 5.2 薄膜の光学定数の測定法
 5.3 光学的性質の測定結果
 5.4 金属薄膜における光プラズマ共鳴
 5.5 特殊な薄膜
 文献

6 半導体薄膜の特質と特性測定
 6.1 半導体の各種特性長と薄膜の特性
 6.2 単結晶薄膜と非晶質薄膜
 6.3 半導体薄膜の特性測定法
 文献

7 薄膜の磁気的性質
 7.1 自発磁化(spontaneous magnetization)
 7.2 薄膜の磁気異方性
 7.3 薄膜の磁区と磁壁
 7.4 薄膜の磁化過程(magnetization process)
 7.5 磁気共鳴(magnetic resonance)
 文献

8 超伝導薄膜
 8.1 超伝導体の一般的性質と薄膜化の効果
 8.2 超伝導接合とその応用
 8.3 高臨界温度を有する超伝導体の研究
 文献

索引



         

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