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応用物理学選書 3 
薄 膜
Thin Films

在庫マーク

東京大学名誉教授 工博 金原 黎・
元 日立製作所 工博 藤原英夫 共著

A5判/402頁/定価7040円(本体6400円+税10%)/1979年6月発行
ISBN 978-4-7853-2503-9 (旧ISBN 4-7853-2503-8)  C3042

 初学者のための“薄膜の物理”の入門書。
 薄膜についての最も基本的な現象、物理的性質について、どうしても知っておいて欲しい理論や実験結果を詳しく解説し、重要な応用にまで触れた。


目次 (章タイトル)  → 詳細目次

1.薄膜の製作法と膜厚測定法
2.薄膜の形成と構造
3.力学的性質
4.薄膜の電気的性質
5.光学的性質
6.半導体薄膜の特質と特性測定
7.薄膜の磁気的性質
8.超伝導薄膜

詳細目次

はしがき

1.薄膜の製作法と膜厚測定法
 1.1 真空蒸着法
 1.2 スパッタリング法
 1.3 気相成長法
 1.4 膜厚の測定法
 文献

2.薄膜の形成と構造
 2.1 薄膜の形成過程と構造の観察
 2.2 核生成の現象論的モデル(VWBDの理論)
 2.3 核生成の原子論的モデル1(Waltonの理論)
 2.4 薄膜形成の確率過程的モデル(Zinsmeisterの理論)
 2.5 核生成の原子論的モデル2(Lewis-Campbellの理論)
 2.6 エピタクシー
 2.7 核成長のモデル
 2.8 薄膜中の構造欠陥
 文献

3.力学的性質
 3.1 弾性的性質
 3.2 付着
 3.3 内部適応(internal stress)
 3.4 引張り特性(tensile properties)
 文献

4.薄膜の電気的性質
 4.1 不連続薄膜
 4.2 連続薄膜
 文献

5.光学的性質
 5.1 基礎となる公式
 5.2 薄膜の光学定数の測定法
 5.3 光学的性質の測定結果
 5.4 金属薄膜における光プラズマ共鳴
 5.5 特殊な薄膜
 文献

6.半導体薄膜の特質と特性測定
 6.1 半導体の各種特性長と薄膜の特性
 6.2 単結晶薄膜と非晶質薄膜
 6.3 半導体薄膜の特性測定法
 文献

7.薄膜の磁気的性質
 7.1 自発磁化(spontaneous magnetization)
 7.2 薄膜の磁気異方性
 7.3 薄膜の磁区と磁壁
 7.4 薄膜の磁化過程(magnetization process)
 7.5 磁気共鳴(magnetic resonance)
 文献

8.超伝導薄膜
 8.1 超伝導体の一般的性質と薄膜化の効果
 8.2 超伝導接合とその応用
 8.3 高臨界温度を有する超伝導体の研究
 文献

索引

著作者紹介

金原 黎
きんばら あきら 
1933年 静岡県に生まれる。東京大学理学部卒業。東京大学教授、金沢工業大学教授などを歴任。専門は薄膜物性。主な著書に『応用物理実験』(共著、朝倉書店)、『薄膜の基本技術』(東京大学出版会)などがある。

藤原 英夫
ふじわら ひでお 
1935年 茨城県に生まれる。東京大学工学部卒業、東京大学大学院工学系研究科修了。日立製作所中央研究所、日立マクセル筑波研究所などで研究開発に従事。専門は磁気記憶、磁気記録。主な著書に『高密度磁気記録技術集成』(共著、総合技術センター)などがある。

(情報は初版刊行時のものから一部修正しています)


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